光学掩模电子束曝光过程的温升有限元模拟

来源 :第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lovesyb

【摘要】

：

本文模拟和讨论当光学掩模在电子束曝光过程中由于电子束能量沉积所引起的光刻胶及衬底的温度变化.模拟采用6英寸的石英掩模,PMMA光刻胶.从极限的情况入手,取80*80mm2的完全图形区域进行大面积曝光,此时整个掩模的温升是最大的.模拟过程中考虑光刻胶、衬底之间及与周围环境之间的热对流,不考虑光刻胶对周围环境的热辐射效果,因为实际上辐射的影响是很小的[1].经过模拟给出了曝光过程中某些特殊点的温升.

【作者】

：

欧毅王冠亚

【机构】

：

中国科学院微电子研究所,北京,100029

【出处】

：

第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会

【发表日期】

：

2005年4期

【关键词】

：

光学掩模电子束曝光有限元模拟

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