新型SiOC陶瓷前驱体的合成及性能

• 作 者: Wu Jiquan Wang Ding Wang Xiujun Li Yongming Xu Caihong 吴纪全 王丁 王秀军 李永明 徐彩虹
• 机 构: Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190
• 出 处: 2012年先进功能复合材料技术重点实验室暨中国航天第十三专业信息网2012年度学术交流会
• 发表日期: 2012年期
• 关键词: 陶瓷前驱体 合成 聚硅氧烷 甲基环四硅氧烷 四甲基 凝胶渗透色谱 开环聚合反应 结构与设计

　　采用四甲基四乙烯基环四硅氧烷(TMTVS)与四甲基环四硅氧烷(TMS)通过阳离子开环聚合反应制备了含Si—H及Si—CH=CH2官能团的聚硅氧烷。用红外、核磁、凝胶渗透色谱及热重分析对该聚硅氧烷进行了表征，结果表明其结构与设计相吻合，其分子量、黏度及Si—H、Si—CH=CH2的比例可以通过改变原料比例来调节。这种新型聚硅氧烷用作SiOC陶瓷前驱体具有低黏度、高陶瓷产率等特点。