ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层对ZnO单晶厚膜生长的影响研究

来源 :第十届全国MOCVD学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:laogong90
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本文首次在Al<,2>O<,3>衬底上引入ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层,并在该衬底上用金属源化学气相外延法(MVPE)生长出了高质量的ZnO单晶厚膜(10微米)。介绍了一种在C面蓝宝石衬底上引入ZnO-Al203固溶层的方法。用双晶X射线衍射仪对样品进行了θ-2θ和rocking curve测量。与直接在C面蓝宝石衬底上生长的ZnO厚膜样品相比,引入ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层可明显提高ZnO单晶厚膜择优取向一致性和晶体质量。
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