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菁染料光解机理的前线分子轨道研究
菁染料光解机理的前线分子轨道研究
来源 :第七届全国化学动力学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lingwei99
【摘 要】
:
菁染料光稳定性较差,为提高其光稳定性,结合实验,作者提出多种光解机理,本人通过SCF PM3和AMI MO计算研究,揭示了正离子型菁染料与相应中性化合物在分子几何,电荷分布,前线分
【作 者】
:
尚兴宏
田禾
贡雪东
肖鹤鸣
【机 构】
:
南京理工大学化学系(南京)华东理工大学精细化工研究所(上海)
【出 处】
:
第七届全国化学动力学会议
【发表日期】
:
2000年8期
【关键词】
:
菁染料
光解机理
前线分子轨道
光记录介质
光稳定性
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菁染料光稳定性较差,为提高其光稳定性,结合实验,作者提出多种光解机理,本人通过SCF PM3和AMI MO计算研究,揭示了正离子型菁染料与相应中性化合物在分子几何,电荷分布,前线分子轨道能级和组成等方面的不同特点.阐明了标题物的光解机理和正离子较中性化合物光稳定的根由.
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