【摘 要】
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采用双室高真空磁控溅射装置在溅射功率和工作气压分别为60 W、0.5Pa和80 W、0.9 Pa两种工艺条件下直流磁控溅射沉积了调制比为1、设计调制周期18.0 nm的Fe/Ti纳米多层薄膜.
【机 构】
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大连理工大学材料科学与工程学院表面工程研究室,辽宁大连,116024
【出 处】
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第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
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采用双室高真空磁控溅射装置在溅射功率和工作气压分别为60 W、0.5Pa和80 W、0.9 Pa两种工艺条件下直流磁控溅射沉积了调制比为1、设计调制周期18.0 nm的Fe/Ti纳米多层薄膜.实测调制周期分别为15.6nm和19.0nm,均由纳米多晶的α-Fe/α-Ti组成,随着溅射功率和工作气压的升高Ti亚层择优取向由α-Ti(002)转变为(100).Fe/Ti纳米多层薄膜热失稳过程包括Fe与Ti亚层间的互扩散、金属间化合物FeTi形核层的形成与长大3个阶段.Ti亚层择优取向为α-Ti(002)时,金属间化合物FeTi开始形成于623 K,而择优取向为α-Ti(100)时,开始形成温度为873 K。
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