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运用光刻技术制备周期性图形化金属Ni膜，并利用X射线衍射(XRD)、扫描式电子显微镜(SEM)，X射线能谱仪(EDS)、振动样品磁强记(VSM)等分析手段表征样品的基本结构信息及静态磁特性.实验结果表明，在工作气压为0.6 Pa，功率为100 W的情况下，运用光刻及刻蚀工艺可制备出不同厚度条状周期结构的Ni薄膜.实验发现不同溅射时间及不同周期的图形化形状等工艺条件对Ni薄膜的电磁特性有一定影响.