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本文利用光学方法对GaN基薄膜材料进行无损伤测试和评价,并搭建了相应的测试系统.通过对材料紫外波段透过率的面分布测试,得到对材料均匀性的定量评价.该系统在国内首次实现了对GaN基薄膜材料均匀性量化的测试.系统的研制成功为大面阵芯片的研制提供必要的筛选手段,对优化薄膜材料生长具有指导意义.
GaN基薄膜材料的均匀性测试系统
【摘 要】
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本文利用光学方法对GaN基薄膜材料进行无损伤测试和评价,并搭建了相应的测试系统.通过对材料紫外波段透过率的面分布测试,得到对材料均匀性的定量评价.该系统在国内首次实现
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083
【出 处】
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2007年红外探测器及其在系统中的应用学术交流会
【发表日期】
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2007年期
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