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SiC晶体结晶缺陷分布演化研究
SiC晶体结晶缺陷分布演化研究
来源 :第十八届全国半导体物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lulufii
【摘 要】
:
本文采用高分辨X射线衍射仪(HR-XRD)、显微聚焦拉曼光谱仪、偏光显微镜等对SiC晶片以及整个晶锭中结晶缺陷的分布进行了表征,重点研究了SiC的结晶缺陷和多晶型分布、形成
【作 者】
:
郭啸
刘学超
忻隽
杨建华
施尔畏
【机 构】
:
中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050
【出 处】
:
第十八届全国半导体物理学术会议
【发表日期】
:
2011年8期
【关键词】
:
半导体材料
碳化硅晶体
缺陷分析
质量控制
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本文采用高分辨X射线衍射仪(HR-XRD)、显微聚焦拉曼光谱仪、偏光显微镜等对SiC晶片以及整个晶锭中结晶缺陷的分布进行了表征,重点研究了SiC的结晶缺陷和多晶型分布、形成及演化的规律以及与生长条件的关系,为优化SiC晶体生长条件、提高晶体结晶质量提供了有益参考。
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