【摘 要】
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基于热纳米压印和转移技术提出一种高温光栅制作新工艺,利用全息干涉、电铸、热纳米压印、真空镀膜和转移技术将高温光栅转移到所测量的试样表面,从而可进行高温云纹变形测量.利用有限元计算镀膜厚度和光栅深度对薄膜应力大小的影响进行了分析,并结合实验优化镀膜厚度和光栅深度,从而防止在镀膜过程中薄膜发生断裂,最后得到最佳工艺优化参数,从而为高温光栅服役行为的改善奠定了基础.
【机 构】
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清华大学工程力学系应用力学教育部重点实验室,北京100084 北京航天材料研究所,北京100076
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基于热纳米压印和转移技术提出一种高温光栅制作新工艺,利用全息干涉、电铸、热纳米压印、真空镀膜和转移技术将高温光栅转移到所测量的试样表面,从而可进行高温云纹变形测量.利用有限元计算镀膜厚度和光栅深度对薄膜应力大小的影响进行了分析,并结合实验优化镀膜厚度和光栅深度,从而防止在镀膜过程中薄膜发生断裂,最后得到最佳工艺优化参数,从而为高温光栅服役行为的改善奠定了基础.
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