工作压力对PVD Si膜性能的影响

来源 :第十八届全国高技术陶瓷学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhoulinqin274385037

【作者】

：

刘洪丽李国遵陈玉峰黄小婷

【机构】

：

天津城建大学天津300384

【出处】

：

第十八届全国高技术陶瓷学术年会

【发表日期】

：

2014年期

【关键词】

：

工作压力 PVD 膜性能

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