氟化钙（CaF[*v2*]）薄膜性质的研究

• 作 者: 张宝仁
• 机 构: 中国科学院上海光机所
• 出 处: 全国光学薄膜技术交流会
• 发表日期: 1986年期
• 关键词: 氟化钙 薄膜的光学性质 折射率 制备工艺 选择范围 性质影响 剩余反射 光学基片 光损耗 运用 结构 表面

文章介绍了制备工艺对CaF[*v2*]薄膜的性质影响。研究了CaF[*v2*]薄膜的光学性质及其结构，获得透明范围为0.13～12μ、在0.53μ折射率选择范围从1.24～1.43、光损耗极低的优质CaF[*v2*]薄膜。运用这一点，使折射率为1.49～2.12之间的任意光学基片，都能得到表面剩余反射＜0.0003的最佳增透效果。（本刊录）