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The Damage on the etched Surface of the ZnO Thin Films in the Cl-based gas chemistry

来源 :第六届国际氧化锌及相关材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liongliong577

【作 者】

：

Keyong-Moo Heo Jong-Chang Woo Chang-Il Kim 

【机 构】

：

Department of Renewable Energy,Chung-Ang University,Seoul 156-756,Republic of Korea

【出 处】

：

第六届国际氧化锌及相关材料研讨会

【发表日期】

：

2010年期

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