【摘 要】
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金属有机物化学气相淀积(Metal organic Chemical Yapor Deposition)简称MOCYD,1968年由美国洛克威公司的Manasevit等人提出制备化合物单晶薄膜的一项新技术。到80年代初得以
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111
【出 处】
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第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会
论文部分内容阅读
金属有机物化学气相淀积(Metal organic Chemical Yapor Deposition)简称MOCYD,1968年由美国洛克威公司的Manasevit等人提出制备化合物单晶薄膜的一项新技术。到80年代初得以实用化，经过近20年的飞速发展，成为目前半导体化合物材料制备的关键技术之一。介绍了MOCVD技术及其发展的必要性、发展趋势、发展战略思考。
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