【摘 要】
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在玻璃衬底上用射频磁控溅射技术进行了非晶态碲镉汞(α-HgCdTe，α-MCT)薄膜的低温生长，获得了射频磁控溅射生长α-MCT薄膜的“生长窗口”。利用X射线衍射(XRD)技术对所生长的
【机 构】
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昆明物理研究所，昆明 云南 650023
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在玻璃衬底上用射频磁控溅射技术进行了非晶态碲镉汞(α-HgCdTe，α-MCT)薄膜的低温生长，获得了射频磁控溅射生长α-MCT薄膜的“生长窗口”。利用X射线衍射(XRD)技术对所生长的薄膜进行分析研究，α-MCT薄膜的XRD衍射为典型的非晶衍射波包。原子力显微(AFM)表征结果表明本文所生长的非晶态碲镉汞薄膜表面平整，没有晶粒出现。
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