论文部分内容阅读
光洁度是光学元件的重要参数之一，传统的喷淋和刷洗的清洗方法，虽然能清洗掉一些常见污染物，但清洗效率低，易造成损伤，且很难清洗一些特殊污染物。本文针对这个问题，设计了一套超声波清洗系统，能自动清洗光学器件的污垢，且能根据污染物的特点，调节清洗参数，清洗后能自动烘干，真正实现了精密光学器件的无损清洗，对一些有遮挡的不易清洗部分，特别有效。系统设计中，通过将批量光学元件沾染不同性质、不同剂量污染物，多次清洗，反复比较，得出了清洗时间、清洗次数、烘干时间等适宜的清洗器配置参数，设计出的自动清洗系统，快捷且方便。由于清洗物的专业性，超声波发生器的设计以参数固定的模拟器件为主；在此基础上加入以单片机为核心的控制模块，实现了清洗的智能化，进一步提高了清洗效率。