La1.8Sr0.2CuO4La1.9Sr0.1CuO4超导双层膜的制备工艺与性能研究

来源 :第十一届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liyinhao

【摘要】

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　　采用固相烧结法制备了掺杂分别为La1.8Sr0.2CuO4和La1.9Sr0.1CuO4的陶瓷激光靶材，利用脉冲激光沉积(PLD)设备，通过对薄膜沉积工艺条件的探索，在SrTiO3 (STO)衬底上成功制备

【作者】

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张媛安跃华孙钢杰沈静琴王顺利李培刚唐为华

【机构】

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浙江理工大学物理系,光电材料与器件中心,杭州,310018北京邮电大学理学院,信息光子学与光通信国家重点实验室,北京,100876

【出处】

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第十一届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

【发表日期】

：

2012年7期

【关键词】

：

超导双层膜制备工艺电学性能晶体结构

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　　采用固相烧结法制备了掺杂分别为La1.8Sr0.2CuO4和La1.9Sr0.1CuO4的陶瓷激光靶材，利用脉冲激光沉积(PLD)设备，通过对薄膜沉积工艺条件的探索，在SrTiO3 (STO)衬底上成功制备了具有c轴取向的过掺杂La1.8Sr0.2CuO4超导薄膜.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等分析手段研究了薄膜的晶体结构和表面形貌.结果表明，在本文所得到的最佳工艺条件下，所制备的薄膜具有较高的质量.在相同的沉积条件下，在单层薄膜的基础上，制各了La1.8Sr0.2CuO4/La1.9Sr0.1CuO4超导双层膜，并利用低温电学性能测量系统对其电学性能进行了初步测试.结果显示，该双层膜具有一定的整流特性.

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