络合剂对光催化制备金属钯膜的影响

• 作 者: 李雪 范益群 金万勤 徐南平 时钧
• 机 构: 南京工业大学膜科学技术研究所,江苏省材料化学工程重点实验室,江苏,南京210009
• 出 处: 第一届全国化学工程与生物化工年会
• 发表日期: 2004年期
• 关键词: 络合剂 光催化反应体系 制备金属 钯膜 二氧化钛半导体 物理化学性质 致密金属 沉积技术 表征方法 压差 特性 片式 辅助 法制 氮气 常温

利用二氧化钛半导体的特性,采用光催化沉积技术制备了片式致密金属钯膜.研究结果发现,在光催化反应体系中引入络合剂EDTA,可以明显改善金属钯膜的物理化学性质.辅助SEM、EDS、XPS等表征方法对所制的钯膜进行分析.该方法制得的钯膜很薄,仅为0.2μm左右;常温下,膜两侧压差△p=0.1MPa时,无氮气通过.