【摘 要】
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采用粒子图像测速(Particle Image Velocimetry, PIV)技术,研究了电晕放电等离子体激励对平板边界层的控制特性；在低速风洞中开展了测力实验,对施加介质阻挡放电等离子体
【机 构】
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中国空气动力研究与发展中心,四川绵阳,621000
【出 处】
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中国力学大会2011暨钱学森诞辰100周年纪念大会
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采用粒子图像测速(Particle Image Velocimetry, PIV)技术,研究了电晕放电等离子体激励对平板边界层的控制特性；在低速风洞中开展了测力实验,对施加介质阻挡放电等离子体控制前后平板的受力特性进行了研究,研究了激励电压,激励频率、来流风速等参数对平板边界层控制的规律。研究结果表明,等离子体可以有效地对平板边界层进行控制,抑制气流分离,减小阻力,显著改善绕流流场特性；施加控制后,在来流20m/s时,最大升力增加6.3％,最小阻力减小7.2%；来流30m/s时,最大升力增加5%,最小阻力减小3%。
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