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针对常用的几种低辐射镀膜玻璃的膜层材料，如银层、氮化硅等，分析这些单层膜层对离线低辐射镀膜玻璃性能的影响，提高银的溅射气压会提高银的溅射效率，反而不利于银层的导电率；氮化硅越厚有利于提高Low-E膜的稳定性。
单层膜特性对Low-E性能的影响
【摘 要】
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针对常用的几种低辐射镀膜玻璃的膜层材料，如银层、氮化硅等，分析这些单层膜层对离线低辐射镀膜玻璃性能的影响，提高银的溅射气压会提高银的溅射效率，反而不利于银层的导电率
【机 构】
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上海耀皮玻璃集团股份有限公司 上海市 201203
【出 处】
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2015年中国玻璃行业年会暨技术研讨会
【发表日期】
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2015年期
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