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当纳米孔道的尺度达到纳米即接近分子大小时，将会出现许多奇异的输运现象。研究这些输运现象对于了解细胞膜离子通道机制，制备新型高效分离设备淡化海水，处理污水，探索新型DNA 测序方法等都有重要意义。基于高分子膜制备的纳米孔具有结构坚韧，柔性并且可以高效大规模制备的优点，但是由于其传统核径迹蚀刻制备法不便可靠控制蚀刻速率，尚无法达到亚纳米尺度。我们最近发展的高能重离子潜径迹纳米孔制备工艺不需要化学刻蚀，而是对高分子潜径迹充分紫外辐照后浸泡在电解质溶液中进行电场处理。它突破了传统径迹刻蚀方法的局限，首次成功制备了能够大规模生产的亚纳米尺度核孔膜，获得了同时具有高分离比和超高通量的新型离子筛，解决了分离膜领域国际难题[1-2]。聚焦这一核孔膜的重大研究进展，我们首先将通过对比传统的径迹刻蚀方法和新的径迹紫外辐照方法，总结制备要点和目前对制备机理的理解。然后我们将在总结表征径迹刻蚀孔的方法基础上，重点介绍针对亚纳米尺度的潜径迹纳米孔的表征所开发的小角X 射线散射以及小分子导通实验测量方面的进展。最后我们将讨论纳米尺度的输运机制研究，特别是亚纳米尺度下的新效应。