等离子体增强溅射技术中辅助阳极的性能模拟与参数优化

来源 :第十一届国际真空冶金与表面工程学术会议、2013年真空工程学术会议暨2013年真空咨询学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:q3177848
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  为探究辅助阳极对等离子体离化率的影响和对辅助阳极进行参数优化,按照实验参数正确建模后,利用COMSOL Multiphysics软件进行等离子体模拟和电磁场耦合模拟。分析模拟结果发现当辅助阳极位于溅射靶和基片之间时能显著提高等离子体离化率。在本模型中,辅助阳极同溅射靶的距离为125mm、同溅射靶中心的距离为350mm、电压为30V和高度为60mm时的等离子体离化率最高。
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