论文部分内容阅读
精密工作台气体静压轴承的理论分析
【机 构】
：
清华大学
【出 处】
：
1988年全国大规模集成电路专用设备学术交流年会
【发表日期】
：
1988年期
其他文献
介绍了衰减相移掩模用于提高光刻分辨率的原理，给出了结构形式，介绍了与传统Ｃｒ掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的制作方法，提供了部分实验结果。
环化顺1.4-聚丁二烯橡胶型光刻胶系新型环化像胶系光刻胶。具有光敏性好、粘附性好，耐酸性优异等一系列优点，特别适用于需耐高温的光刻腐蚀。该文介绍了环化顺丁光刻胶的组成及