聚二甲基硅氧烷表面的氧等离子体改性

• 作 者: 李永刚 张平 吴一辉 宣明
• 机 构: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,长春,130033;中国科学院研究生院,北京,100039中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,长春,1300
• 出 处: 第三届全国微全分析系统学术会议
• 发表日期: 2005年10期
• 关键词: 聚二甲基硅氧烷 氧等离子体 表面改性 微流控芯片

聚二甲基硅氧烷(PDMS),是目前微流控芯片制备中使用较多的高分子聚合物材料.固化后的PDMS表面由于表面能低,化学惰性等原因,使表面亲水性和黏结性都很差,液体在PDMS微通道中难于流动,从而限制了它在微流控芯片领域中的广泛应用.所以需要对PDMS表面进行处理,改变其表面化学组分,引入亲水性基团,增加表面能,从而提高表面亲水性和黏结性.本文利用氧等离子体对PDMS表面进行处理可以获得亲水性的表面.