通过向SOFC阳极Ni+YSZ中掺入具有混合导电性的CeCaO增加了阳极反应的三相界面,在阳极内部提供了更多的氧离子通道,有效地促进了阳极反应的进行,提高了阳极的性能和电池的输出特
本文简单介绍了DSOI技术,并提出了体硅,SOI及DSOI MOSFET的热阻模型.进而对体硅,SOI MOSFET器件,特别是DSOI MOSFET的热学特性进行数值计算,比较其计算结果并做出相应的分析.
与体硅材料和器件比较,SOI具有许多独特的优越性,例如高开关速度、高密度、抗辐照、无闩锁效应等。因而被称为21世纪的微电子技术而引起人们越来越多的关注,SOI技术正走向商业应用阶段。
全国经济下行,房价环比上行rn新冠肺炎疫情冲击下,国内经济衰退.第一季度GDP同比下降6.8%,较2019年第四季度大幅下滑12.8pts,为近20年以来首次负增长,且跌幅甚至大于2008年.出
在信息时代,信息作为最新、最有价值的知识的体现,不仅是最重要的战略资源,而且也是社会进步最强有力的推动力,即经济、文化等一切有价值的增长都是通过信息来实现的。反映
在晶粒间界缺陷态的场致发射理论的基础上,考虑了多晶硅TFT关态时的寄生双极晶体管效应,提出了一个简单的物理模型,得到了关态电流与栅压、漏压、温度及沟道长度、宽度等的依赖关系
在Pt/Ti/SiO/Si衬底上,用Sol-gel方法制备PZT(40/60)铁电薄膜,选择不同的后期退火温度和时间,研究其对薄膜的微结构、铁电性能的影响,建立了合适的退火条件。对于厚度2200埃的PZT(40/60)铁
试验了利用同有质量分析器的离子注入机向硅片中注入氢离子,实现了硅表层薄膜的转移,形成SOI结构。并利用RBS、AFM、XTEM、SPR等研究了了用上述方法制备的SOI材料,同时表征了所制备的SOI材料质量。
采用Sol-Gel法制备了SnO薄膜.研究了掺杂含量、气氛处理、烧结时间、Cl等实验条件对SnO薄膜电阻的影响,分析了影响的机理,并利用这种低阻SnO薄膜制作成热线型气敏元件,发现它