磁控溅射金属铝、银膜的原子力显微镜研究

来源 :'98全国材料表面与界面的科学与工程研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhpf
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该文利用磁控溅射方法在石英及单晶硅基底上镀制了金属铝及金属银膜。利用原子力显微镜(AFM)在大气环境中,接触模式下,研究了不同参数下(包括:沉积时间、基底温度等)获得的金属膜的表面形貌及结构特征。对晶粒尺寸D、均方根粗糙度RMS进行了定量分析测定。并对其生长机理、结晶行为作了初步的探讨。结果显示:随着基底温度的升高,金属膜晶化增强,表面晶粒尺寸及形状均发生变化;表面均方根粗糙度RMS随基底温度增加而线性增加。同时,在相对较低的基底温度(T<,S>/T<,M><0.3)及较高的沉积速率的非平衡态条件下,讨论了影响表面形貌及结构的因素;随沉积时间的增加,(基底温度为室温时)晶粒尺寸变大,金属膜从离散的颗粒直至长成连续的薄膜。探讨了其初期生长机理。
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