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在TEABr‐TEAOH 双微孔模板剂体系中，采用气相法合成了多级孔道Beta 分子筛(Beta‐V)，并对合成的样品进行了X 射线衍射、透射电镜、低温氮气吸脱附以及热重‐差示扫描量热分析表征。结果表明，在TEABr‐TEAOH 双微孔模板剂体系气相法合成Beta 分子筛中，所合成的Beta 分子筛具有较大的比表面积、孔容及介孔/微孔孔容之比，并且由于部分TEABr 在合成过程中起到了“空间限域”的作用，使Beta 分子筛晶粒限制在纳米级(20‐40 nm)，进而形成一个大小为19 nm 的晶间介孔。