AlGaN/GaN多量子阱的分子束外延生长及其子带间跃迁性质的研究

来源 :第十三届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huangmajun
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  我们利用分子束外延(MBE)的方法在蓝宝石衬底上得到了高晶体质量表面平整的AlN和全组分AlGaN 薄膜。通过从生长动力学以及应力的角度对AlN厚膜的MBE生长进行物性研究,并分析得到了AlN分子束外延生长区间图。
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