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为制备高雾度、高透过和高导电薄膜玻璃，实验采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)、三氟乙酸(TFA)和去离子水为前驱物、掺杂剂和催化剂制备SnO2：F透明导电薄膜，并通过调节催化剂水的用量，研究了不同用量的水对薄膜雾度的影响，分析影响雾度变化的机理.结果表明：通过调节水的用量实现了高雾度、高透过和高导电薄膜的生成.随着水用量的增加，薄膜平均晶粒尺寸、结晶度和雾度先增大后减小；当水用量为MBTC摩尔量的1.5倍时，制备出雾度为14.3％，可见光透过率76.8％，方块电阻为3.2Ω/□的薄膜.通过调节实验中水的用量可有效解决高雾度和高透过率之间相互影响、相互矛盾的难题.