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随着微带电路工作频率的提高,MIC工艺精度已成为一个制约因素.本文介绍了新型湿膜抗蚀剂在提高MIC工艺精度中的作用;从结构和原理上分别分析了干膜和湿膜的优点与局限,根据试验结果对二者进行对比,并对实验结果做了总结和分析;用湿膜可较好的解决MIC工艺中的精细线条制作困难问题,更容易实现微带电路精密图形转移.