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电沉积Ni-W-SiO复合镀层的研究

来源 :第十届全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：clear0102

【作 者】

：

李振良 杨防祖 姚士冰 

【机 构】

：

厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室(厦门)

【出 处】

：

第十届全国电化学会议

【发表日期】

：

1999年12期

【关键词】

：

电沉积 化学镀 复合镀层 镍 钨 二氧化硅 

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