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采用喷射沉积工艺在普通玻璃和CuInS2(CIS)基底上制备出可见光区域平均透过率达78.9％，沿[111]晶向择优取向生长，具有γ态立方闪锌矿结构的CuI薄膜。采用喷射沉积制备CuI薄膜是一种有益的尝试，宽带隙结构的CuI薄膜作为缓冲层不仅能增加可见光范围内蓝色波段利用率，而且价格低廉、无毒，所获结果对实际工艺条件的选择具有一定借鉴作用和参考价值。