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对电荷耦合器件（CCD）交流成像中存在的背景发白、亮条、亮点、拖影和固定图像噪声等不良背景进行了分析，并提出了调整栅介质生长方法、本征吸杂、低温退火等消除不良背景的具体工艺方法，获得了高质量的CCD器件。测试结果表明，其交流成像中的不良背景得到了有效控制。
消除CCD不良背景的工艺研究
【摘 要】
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对电荷耦合器件（CCD）交流成像中存在的背景发白、亮条、亮点、拖影和固定图像噪声等不良背景进行了分析，并提出了调整栅介质生长方法、本征吸杂、低温退火等消除不良背景的具体
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
：
半导体光电
【发表日期】
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2008年3期
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