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用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）研究几种不同工艺制备的匀胶铬版表面，铬膜内部以主各层之间界面处的微观化学组成和化学状态，讨论了不同工艺对铬版材料微观构成及宏观特性的影响。
匀胶铬版表面界面微观构成的X射线光电子能谱表征
【摘 要】
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用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）研究几种不同工艺制备的匀胶铬版表面，铬膜内部以主各层之间界面处的微观化学组成和化学状态，讨论了不同工艺对铬版材料微观构成及宏观特性的影响。
【机 构】
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天津电子工业部第四十六研究所
【出 处】
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分析测试学报
【发表日期】
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1997年5期
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